Kontakt

DFM A/S

Kogle Allé 5

DK-2970 Hørsholm

Tlf: 77305800

E-mail: administration@dfm.dk

CVR/VAT#: DK29217939

 

Ole Stender Nielsen
Salg og marketing

+45 25459030
osn@dfm.dk

DFM har en veltrimmet flåde af udstyr

Du kan herunder se en liste over det væsentligste af det udstyr vi har til rådighed. Noget af udstyret kan endda lejes på time- eller dagsbasis, i visse tilfælde dog udelukkende hvis det bliver betjent af en af DFMs ansatte.

Såfremt du har spørgsmål om leje af udstyr, kontakt da DFM på administration@dfm.dk

Udstyrsliste

Udstyr Beskrivelse
Atomic force mikroskop (AFM) (Park System NX-20)
  Måleområde 100 × 100 × 15 µm3. Kalibreret med måleusikkerhed ned til 0,02 % for perioder på 1 µm og 1 nm for stephøjder på 20 nm
  Væskecelle og temperaturkontrol fra 4°C op til 180°C.
  Materialeegenskaber udmålt med AFM indtryk. Trykkraft fra 0 til 1 mN, opløsning ned til 1 nN, dybde ned til 1 µm med en opløsning på 0,1 nm. Youngs modul for overfladen kan estimeres i området fra 1 MPa til 10 GPa
  Scanning Kelvin Probe Force Microscopy (SKPFM) bestemmer en DC potential difference mellem spids og prøve som kan relateres til overflade elektroners løsrivelsesarbejde: dynamic range ±10 eV, støjniveau 0,02 eV
  Conductive atomic force microscopy der måler en strøm mellem AFM spids og en ledende prøve der kan relateres til lokale elektroniske egenskaber som den lokale tæthedstilstand.
  AFM spidser, mere end 30 forskellige typer med krumningsradius fra 2 nm til 0,75 µm, fjederkonstant fra 0,03 N/m til 2000 N/m og materiale af bl.a. silicium, wolfram carbid og diamant, polystyren, guld, kvarts og ledende spidser med platin fra bl.a. NanoSensors, TeamNanotech, mfl.
   
AFM (Bruker Multimode8)
  Målevolumen op 150 µm × 150 µm × 5 µm og med en måleusikkerhed på 2 % til 10 %
  Væskecelle og temperaturkontrol 20°C til 60°C.
  Materialeegenskaber udmålt med AFM indtryk. Trykkraft fra 0 til 1 mN, opløsning ned til 1 nN, dybde ned til 1 µm med en opløsning på 0,1 nm
  Scanning Kelvin Probe Force Microscopy (SKPFM) bestemmer en DC potential difference mellem spids og prøve som kan relateres til overflade elektroners løsrivelsesarbejde: dynamic range ±10 eV, støjniveau 0,02 eV
   
Konfokal og interferensmikroskop (Sensofar PLu Neox)
  Non contact 3D profiling, konfokal og interferensmikroskop med seks objektiver, som har et lateral måleområde fra 85 × 64 µm2 til 1,27 × 0,97 mm2 og et vertikalt måleområde fra 5 nm til 10 mm. Instrumentet kalibreret med lateral målenøjagtighed ned til 0,15 % for en periode på 10 µm og en vertikal målenøjagtighed ned til 3 nm
  Overflade topografi. Hurtig og præcis udmåling af overflader samt grænseflade der er beskyttet af et transparent lag.
   
Optisk diffraktions mikroskop (Designet og udviklet af DFM)
  Udmåling af overfladeprofiler med nøjagtighed på ned til 1 nm
  Real time bestemmelse af overfladeprofilen
   
Diffraktionsopstilling (Designet og udviklet af DFM)
  To rotationsborde og goniometre med nøjagtighed ned til 3 × 10-4. Måling af gitterperioder med en målenøjagtighed bedre end 0,5 nm for gitre med en periode større end 1 µm
  Ruhedsmåler: Kalibrering af optiske instrumenter til måling af ruheder
   
Mueller Polarimeter (Designet og udviklet af DFM)
  Måling af overfladetopografi, tynde film samt brydningsindeks for materialer.
  Brydningsindeks for tynde film kan bestemmes ned en absolut nøjagtighed ned til 1 × 10-3
  Tykkelsen af tynde film kan bestemmes med en absolut nøjagtighed ned til 5 × 10-4
  Linjebredden af periodiske strukturer kan bestemmes med en absolut nøjagtighed ned til 0,5 nm
  Højden af periodisk struktur kan bestemmes med en absolut nøjagtighed ned til 1,0 nm
   
Statisk lysspredning (diffraktion) til udmåling af partikeldiameter (Malvern Mastersizer 2000)
  0,1 µm til 2 000 µm
   
Particle Counter Spectrometer (Particle Measuring Systems LAS-X II)
  0,1 µm til 7 µm i 100 kanaler.
  Koncentrationen af partikelstørrelser med gennemsnitsdiametre mellem 500 og 5000 nm. Kalibreret med en usikkerhed på partikelantal på 5 til 8 %
   
Ruhedsmåler (Taylor Hobson)
  Måleusikkerhed ca. 2% for en Ra på 6 µm
   
Interferometer (Zygo)
  Udmåling af forskydning. Kalibreret med nøjagtighed ned til 0,3 nm og eller 4 × 10-7
   
Stage (nPoint)
  Skanneområde 500 µm × 500 µm (PI) og stage med skanneområde på 400 µm × 400 µm × 100 µm
   
Normaler Sporbare til internationalt anerkendte normaler
  Stephøjde på nominelt 1 µm med en måleusikkerhed 1,2 nm
  Todimensionalt gitter med periode 1 µm med en måleusikkerhed 0,017 nm
   
Analyse software  
  Software pakke til nano- og mikroskala billedbehandling og analyse (SPIP – Scanning Probe Image Processor, Image Metrology A/S)
  Billedbehandling og analyse (XEP, Park Systems)
  Billedbehandling og analyse (NanoScope Analysis, Bruker)
  Designprogram til optik (Zemax, Radiant Zemax)
  Design og måling af tynde film (FilmWizard, Scientific Computing International)
  Avanceret FEM modellering software (JCMwave)
  DFM-GUM og DFM-LSQ måleusikkerheds software (DFM)
  Generel billedbehandling og analyse, Matlab (MathWorks)
   
Andet udstyr  
  Geometriske referencer: Mange forskellige gitre med stephøjde fra 0,02 µm til 50 µm og gitre med periode fra 0,07 µm til 125 µm samt ruhed, kritiske dimensioner som linjebredde og hældningsvinkel (NanoSensors, Plano, TeamNanotech m.fl.)
  Ultraviolet ozon rensning af overflader (Bioforce nanoscience), UV-VIS-NIR Lightsource, bølgelængde 200 nm til 1000 nm (Ocean Optics)
  Partikel areosol generator for partikelstørrelser fra 0,1 µm til 5 µm (CH Technologies, Inc) og trykluftsanlæg (Norgren)
  Plasma rensning af overflader (Plasma system Zepto, Diener electronic GmbH)
  Wafer spinner (SPIN 150), Ultralydsrenser (Branson 1200), kvælstof og CO2 rensning
  Biosafety cabinet (Holten Bio Safe), arbejdsmikroskoper